最好的配资平台这些最先进的光刻机目前只有ASML能够制造

在半导体制造中，光刻技术是通过光学系统将电路图案精确投射到硅片上的关键工序，占据了芯片制造成本的30%左右，而光刻机就是实现这一技术最为关键的设备。正因为如此，光刻机被誉为芯片制造领域“皇冠上的明珠”，其技术水平直接决定了一个国家能够生产的芯片精度和性能。

令人遗憾的是全球光刻机市场呈现高度垄断态势，荷兰ASML公司占据了全球80%以上的市场份额，尤其是在最先进的EUV光刻机上，ASML几乎独家供应，市场份额高达100%。那么我国大陆的光刻机处在什么阶段呢，和ASML有多大差距呢？最近，外媒给出了一个分析。

一、高盛的评估依据

就在近日，有外媒报道，高盛发布的报告中明确指出，我国大陆光刻机技术仍停留在65纳米阶段。报告指出，制造5纳米及以下更先进制程的芯片需要依靠EUV光刻机，而埃米级制程则需要更先进的高数值孔径High NA EUV光刻机。这些最先进的光刻机目前只有ASML能够制造，但由于它们依赖于美方原产的关键零部件，美方能够限制其对大陆进行销售。

高盛强调，ASML从65nm技术跃升至低于3nm的光刻能力，耗费了二十年时间，并投入了高达400亿美元的研发与资本支出。考虑到我国大陆当前技术水平、所需庞大投入以及全球供应链的复杂性，高盛认为大陆在短期内赶上西方先进技术的可能性较小。

二、大陆光刻机是公示一代、测试一代、预研一代

之所以高盛认为大陆光刻机工艺仍是65nm，这因为去年大陆公布了多款光刻机。其中有一款氟化氩光刻机的分辨率就是65nm水准。不过很多人认为大陆在光刻机领域的实际进展可能比公开数据更为先进，毕竟我国大陆长期以来在高端技术领域采用“公示一代、测试一代、预研一代”的策略。这种策略曾经在大陆的多个高科技领域得到成功应用，使大陆能够在不受过度关注的情况下实现技术积累和突破。

目前，上海微电子已经攻克了28nm光刻机的相关技术，哈工大团队更是突破了7nm光源技术。而在核心部件方面，科益虹源已实现40W级ArF准分子激光器量产，华卓精科突破了双工件台技术，启尔机电攻克了浸没系统控制技术。这些突破显示大陆正在构建从光源、镜头到整机的完整光刻机产业链，采用“成熟制程自主化与先进制程技术储备”的双线作战策略。

三、让对手低估未必是坏事

高盛的报告可能无意中起到了战略误导的作用，让国际竞争对手低估大陆在光刻机领域的实际进展。有网友直言不讳地指出：“高盛这个说的太好了，让他继续麻痹西方，永远沉浸在自我陶醉之中”。这种观点代表了一种战略思维：让对手低估总比让对手过度警惕要好。

实际情况也确实如此，大陆正在光刻技术领域探索多条差异化技术路线，包括同步推进纳米压印与电子束直写技术，探索超表面光学等变革性方案。并且大陆还积极与IMEC等国际研究机构保持技术交流，通过多种渠道获取技术知识和设备进行研究。在这种多管齐下的策略，结合大陆的集中投入和巨大市场优势，可能使大陆在光刻机领域实现比预期更快的突破。